光学掩模板，又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等，在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版。光掩模板应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用光掩模板，主要用于集成电路（IC）、 平板显示器（FPD）、 印刷电路板（PCB）、微机电系统（MEMS）等领域。光掩模基版（基板）是制作微细光掩模图形的感光性空白板，比如光掩模铬版基板，是光掩模板基体材料上镀铬所得到的感光性空白板，再通过光刻制版等工序就可以获得所需光掩模板。

目前国内光掩模玻璃基板产业链没有打通，光掩模石英玻璃基板产品仍需在日、韩精加工 （精磨、镀膜）后，才能返回国内光掩模板厂商进行光刻。

因此，由弘燊石英产业大会主办的“2026第六届安徽国际石英产业大会”邀请到了南通晶体有限公司市场营销部经理潘御宇，为我们分享《光掩模用石英材料研发及产业化进展》主题报告。